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多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析
¥20.2(3.6折)定价:¥56.0本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程,同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述...
本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程,同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述...
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