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微小世界里的新天地:神奇的薄膜 版权信息
- ISBN：9787030319357
- 条形码：9787030319357 ; 978-7-03-031935-7
- 装帧：暂无
- 册数：暂无
- 重量：暂无
- 所属分类：>
微小世界里的新天地:神奇的薄膜 本书特色
在我们的日常生活中，很多人的脑子里都充斥着“薄膜”一词，他们围绕着薄膜夜以继日地开展工作，从事研究、学习和相互交流。可以说制作薄膜、使用薄膜以及从事薄膜相关产业的人遍布世界各地。 麻莳立男著的《微小世界里的新天地--神奇的薄膜(四色全彩)》主要介绍了薄膜相关领域的前辈们留下的这一技术中的基础内容。如果读者希望更深入地了解和研究这一领域，可以查找卷末列出的参考书籍和参考文献，从中获取自己需要的相关信息。 对于书中较难理解的部分，作者麻莳立男根据自己的经验从身边的现象和事例人手进行说明，以帮助读者加深理解，可能有些地方会与物理学内容不一致，但还是请大家了解这些事例的列举仅仅是为了方便理解而已。
微小世界里的新天地:神奇的薄膜 内容简介
本书介绍了薄膜的生产、特性以及应用, 内容包括制备薄膜的重要环境条件 —— 真空、薄膜的制备、薄膜特有的性质、增强基板与薄膜结合的技术、等离子体在薄膜制备中的重要性等。
微小世界里的新天地:神奇的薄膜 目录
第1章 幸福生活从美丽与微观开始
001 展现缤纷色彩的颜料用微小粉末描绘美丽世界
002 复制美丽——相片彩色相片与数码相机
003 薄膜技术使机器人不断进化利用薄膜材料与计算机进行精密制备
004 创造五种感官视觉、听觉、嗅觉、味觉与触觉的创造
005 制造人工智能
006 我们身边的电子产品都在使用薄膜
007 利用不分解的压延技术，可以薄到什么程度
008 制造薄膜与制作精细图案
COLUMN 真空的含义
第2章 制备薄膜的重要环境条件——真空
009 真空——压强低于大气压的空间状态
010 真空的单位与压强的单位：帕斯卡（Pa）
011 抽出和吸附——真空泵的分类
012 真空的分析和测量真空计
013 真空装置的制造方法
COLUMN 质量瞬移
第3章 薄膜的制备
014 薄膜的形成——先气化，再固化沉积
015 四种气化源
016 单层生长与形核长大薄膜的生长①
017 薄膜内部缺陷薄膜的生长②
018 仅有薄膜还不够薄膜与基板的结合
019 目标：单晶薄膜
COLUMN 出身和教育同样重要
第4章 薄膜特有的性质
020 薄膜的密度和厚度会随时间减小
021 薄膜电阻的变化比体材料大
022 热稳定性降低通过时效处理加以克服
COLUMN 薄膜和基板的连接
第5章 增强基板与薄膜结合的技术
023 制膜的基础：平整的基板
024 前期处理：使基板表面完全裸露
025 前期处理的*后工序：干燥
026 制备附着强度更强的薄膜
027 改变气化源、增加附着强度
028 薄膜与基板的相合性更为重要
029 着陆点：险峻的山地
030 得到希望的薄膜组成
031 制造用于大面积集成电路的非晶薄膜
032 电迁移断线及其解决方法
COLUMN 太阳之子——等离子体
第6章 等离子体在薄膜制备中的重要性
033 等离子体的神奇之处及其应用
034 通过放电获得等离子体
035 低气压（良好真空）下的磁控放电
036 产生薄膜用等离子体的五种方法
037 薄膜制备的难题——尘埃
COLUMN 望远镜和照相机视场变亮的奥秘
第7章 从古代沿用至今的蒸镀法
038 蒸发源
039 加工等厚膜的方法
040 离子镀的使用
041 进一步发挥离子的作用
042 防止蒸镀材料与薄膜间的成分变化激光沉积法
043 制作透明导电的薄膜透明导电薄膜的蒸镀方法
COLUMN 活学活用
第8章 大面积气化源、适于批量生产的溅射法
044 溅射率是由离子能量和薄膜材料的种类决定的
045 溅射产生的原子遵循余弦法则且速度非常快
046 溅射的主要方式
047 以低电压、定压（高真空）为目标的磁控溅射
048 支撑半导体IC高集成度发展的铝合金溅射
049 利用反应溅射制作高性能电阻膜
050 用溅射法制作氧化物高温超导膜
051 低电压下制造透明导电膜（氧化物）ITO
052 薄膜加工的过渡——从平面成膜到微孔成膜
053 利用离子进行超微细孔的填埋
054 向高真空、无氩气溅射的过渡
COLUMN 神奇的过程——从气体到薄膜
第9章 由气体制作薄膜的气相沉积法
055 气体向固体的转变：薄膜的气相沉积
056 很多的CVD方法已被实用化
057 CVD法制备IC中至关重要的硅系薄膜
058 高清彩色电视用的硅薄膜
059 高诱电率薄膜和低诱电率薄膜的制作
060 用气相沉积法制备金属导体薄膜
061 表面改性法制备氧化薄膜、氮化薄膜
COLUMN 从水（液体）中提取薄膜（固体）
第10章 在液体中制作镀膜
062 镀膜技术的发展
063 液相镀膜和真空薄膜中的核生长
064 精密镀膜在电气领域的应用
COLUMN 用世界上*小的刀进行切削加工
第11章 将薄膜加工成电路、晶体管等的蚀刻技术
065 蚀刻法制备图样：在正确的位置加工正确的形状
066 用气体离子进行蚀刻
067 *关键的一步——等离子体的制备
068 反应气体是重要的
069 决定蚀刻的条件
070 利用极细离子束进行故障修理
071 利用CMP进行平坦化处理
072 无CMP的平坦化技术
COLUMN 向伟大的梦想前进！
第12章 薄膜发展的无限可能性
073 操控原子，制造未来仪器
074 薄膜——带动世界通信网络发展
075 用微动同步器挽救生命
076 生物计算机的使用
参考文献
译后记
001 展现缤纷色彩的颜料用微小粉末描绘美丽世界
002 复制美丽——相片彩色相片与数码相机
003 薄膜技术使机器人不断进化利用薄膜材料与计算机进行精密制备
004 创造五种感官视觉、听觉、嗅觉、味觉与触觉的创造
005 制造人工智能
006 我们身边的电子产品都在使用薄膜
007 利用不分解的压延技术，可以薄到什么程度
008 制造薄膜与制作精细图案
COLUMN 真空的含义
第2章 制备薄膜的重要环境条件——真空
009 真空——压强低于大气压的空间状态
010 真空的单位与压强的单位：帕斯卡（Pa）
011 抽出和吸附——真空泵的分类
012 真空的分析和测量真空计
013 真空装置的制造方法
COLUMN 质量瞬移
第3章 薄膜的制备
014 薄膜的形成——先气化，再固化沉积
015 四种气化源
016 单层生长与形核长大薄膜的生长①
017 薄膜内部缺陷薄膜的生长②
018 仅有薄膜还不够薄膜与基板的结合
019 目标：单晶薄膜
COLUMN 出身和教育同样重要
第4章 薄膜特有的性质
020 薄膜的密度和厚度会随时间减小
021 薄膜电阻的变化比体材料大
022 热稳定性降低通过时效处理加以克服
COLUMN 薄膜和基板的连接
第5章 增强基板与薄膜结合的技术
023 制膜的基础：平整的基板
024 前期处理：使基板表面完全裸露
025 前期处理的*后工序：干燥
026 制备附着强度更强的薄膜
027 改变气化源、增加附着强度
028 薄膜与基板的相合性更为重要
029 着陆点：险峻的山地
030 得到希望的薄膜组成
031 制造用于大面积集成电路的非晶薄膜
032 电迁移断线及其解决方法
COLUMN 太阳之子——等离子体
第6章 等离子体在薄膜制备中的重要性
033 等离子体的神奇之处及其应用
034 通过放电获得等离子体
035 低气压（良好真空）下的磁控放电
036 产生薄膜用等离子体的五种方法
037 薄膜制备的难题——尘埃
COLUMN 望远镜和照相机视场变亮的奥秘
第7章 从古代沿用至今的蒸镀法
038 蒸发源
039 加工等厚膜的方法
040 离子镀的使用
041 进一步发挥离子的作用
042 防止蒸镀材料与薄膜间的成分变化激光沉积法
043 制作透明导电的薄膜透明导电薄膜的蒸镀方法
COLUMN 活学活用
第8章 大面积气化源、适于批量生产的溅射法
044 溅射率是由离子能量和薄膜材料的种类决定的
045 溅射产生的原子遵循余弦法则且速度非常快
046 溅射的主要方式
047 以低电压、定压（高真空）为目标的磁控溅射
048 支撑半导体IC高集成度发展的铝合金溅射
049 利用反应溅射制作高性能电阻膜
050 用溅射法制作氧化物高温超导膜
051 低电压下制造透明导电膜（氧化物）ITO
052 薄膜加工的过渡——从平面成膜到微孔成膜
053 利用离子进行超微细孔的填埋
054 向高真空、无氩气溅射的过渡
COLUMN 神奇的过程——从气体到薄膜
第9章 由气体制作薄膜的气相沉积法
055 气体向固体的转变：薄膜的气相沉积
056 很多的CVD方法已被实用化
057 CVD法制备IC中至关重要的硅系薄膜
058 高清彩色电视用的硅薄膜
059 高诱电率薄膜和低诱电率薄膜的制作
060 用气相沉积法制备金属导体薄膜
061 表面改性法制备氧化薄膜、氮化薄膜
COLUMN 从水（液体）中提取薄膜（固体）
第10章 在液体中制作镀膜
062 镀膜技术的发展
063 液相镀膜和真空薄膜中的核生长
064 精密镀膜在电气领域的应用
COLUMN 用世界上*小的刀进行切削加工
第11章 将薄膜加工成电路、晶体管等的蚀刻技术
065 蚀刻法制备图样：在正确的位置加工正确的形状
066 用气体离子进行蚀刻
067 *关键的一步——等离子体的制备
068 反应气体是重要的
069 决定蚀刻的条件
070 利用极细离子束进行故障修理
071 利用CMP进行平坦化处理
072 无CMP的平坦化技术
COLUMN 向伟大的梦想前进！
第12章 薄膜发展的无限可能性
073 操控原子，制造未来仪器
074 薄膜——带动世界通信网络发展
075 用微动同步器挽救生命
076 生物计算机的使用
参考文献
译后记
展开全部
微小世界里的新天地:神奇的薄膜 作者简介
（日）麻莳立男，1934年生于日本爱知县，1957年静冈大学工学部电子工学专业毕业，同年加入日本电气株式会社，1967年被调任至日电Valian(现佳能ANELVA株式会社)，1990年至2010年任东京理科大学教授和返聘教授、日本真空协会个人理事、工学博士。主要著作有《话说真空》、《薄膜制作基础》、《超微细加工基础》、《简明电磁学》、《超微细加工人门》、《简明薄膜读本》(日刊工业出版社)等。谭毅，1993年3月获东京工业大学金属工学博士学位；1997年10月在日本超高温材料研究所任新能源产业技术综合开发机构研究员；2001年5月任美国加州大学洛杉矶分校材料科学与工程系研究员；2009年9月受聘于大连理工大学，任材料学院教授、能源研究院副院长至今。现从事冶金法提纯多晶硅材料、薄膜材料、高温材料等新能源材料的研究。史蹟，1984年毕业于大连理工大学金属材料专业；1993年赴日本留学；1997年获东京工业大学金属工学博士学位，后任日本国立电气通信大学量子物质工学助教；2004年任东京工业大学材料工学副教授至今。现从事金属物理、功能材料、结构分析等材料科学的研究。
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