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石墨烯基础及氢气刻蚀 版权信息
- ISBN：9787502481971
- 条形码：9787502481971 ; 978-7-5024-8197-1
- 装帧：平装-胶订
- 册数：暂无
- 重量：暂无
- 所属分类：>>
石墨烯基础及氢气刻蚀 本书特色
石墨烯由于具有独特的晶体结构、优异的电学、光学和力学性质，在纳米电子器件和储能应用等诸多领域引起科研人员的极大关注。近年来，石墨烯的基础研究越来越深入，石墨烯器件的发展也随之突飞猛进。《石墨烯基础及氢气刻蚀》内容涵盖了石墨烯的晶体结构和电子结构、石墨烯的性质及应用、石墨烯的制备和表征，以及石墨烯的氢气刻蚀研究等。该书对推动石墨烯的基础研究，特别是石墨烯的制备和刻蚀方面有着重要的指导作用。
《石墨烯基础及氢气刻蚀》面对的读者大致可以分为两类：□□类是刚开始从事石墨烯材料相关研究的科研人员，该书可以为其提供目前石墨烯发展的一个全面的、具体的介绍，使其能够快速地掌握石墨烯的研究现状；第二类是与石墨烯二维材料具有一定联系的教育工作者或兴趣爱好者，可以作为材料科学领域课程的一部分，也可以作为一本相关的科普读物。
石墨烯基础及氢气刻蚀 内容简介
本书首先介绍了石墨烯的晶体和能带结构, 石墨烯的制备方法以及在电子器件、热传导、场发射、传感器、复合物和能量存储等方面的应用 ; 然后本书详细介绍了利用CVD法在Mo膜和抛光Cu衬底上制备高质量的石墨烯薄膜 ; *后详细研究了石墨烯的H2刻蚀现象。
石墨烯基础及氢气刻蚀 目录
1 绪论
参考文献
2 石墨烯的晶体结构和电子结构
2．1 石墨烯的晶体结构
2．2 石墨烯的电子结构
2．2．1 单层石墨烯的电子结构
2．2．2 石墨烯中无质量的狄拉克费米子
2．2．3 双层石墨烯的电子结构
2．2．4 多层石墨烯的电子结构
参考文献
3 石墨烯的性质及应用
3．1 石墨烯能带隙的打开
3．2 石墨烯基微电子器件和纳米电子器件
3．2．1 石墨烯电路中的晶体管数量
3．2．2 数字逻辑门
3．2．3 数字非易失性存储器
3．3 高频电子器件
3．3．1 模拟电压放大器
3．3．2 石墨烯环振荡器
3．4 基于分层材料的器件
3．5 新型的垂直型／平面型晶体管和器件
3．5．1 垂直隧道晶体管和垂直热电子晶体管
3．5．2 2d异质结构的面内传输
3．6 电子发射
3．7 石墨烯饱和吸收剂和相关设备
3．8 石墨烯相关应用举例
3．8．1 透明电极
3．8．2 纳米电子器件
3．8．3 储能应用
3．8．4 传感器方面的应用
3．8．5 复合材料方面的应用
参考文献
4 石墨烯的制备、表征及转移
4．1 干法剥离
4．1．1 用于研究目的的机械剥离
4．1．2 阳极键合
4．1．3 激光烧蚀和光剥离
4．2 液相剥离
4．2．1 石墨的液相剥离
4．2．2 氧化石墨的液相剥离
4．2．3 插层石墨的液相剥离
4．3 SiC热蒸发法
4．4 化学气相沉积（CVD）
4．4．1 金属衬底上热CVD法制备石墨烯
4．4．2 绝缘衬底上热CVD法制备石墨烯
4．4．3 CVD法制备大尺寸石墨烯晶畴
4．5 其他制备方法
4．5．1 过渡金属表面析出法
4．5．2 碳纳米管解理法
4．6 石墨烯的表征技术
4．6．1 光学显微镜
4．6．2 原子力显微镜
4．6．3 扫描电子显微镜
4．6．4 透射电子显微镜
4．6．5 拉曼光谱
4．7 石墨烯的转移技术
参考文献
……
5 CVD法在单晶Mo膜衬底上制备高质量石墨烯薄膜
6 CVD法在抛光Cu衬底上制备高质量石墨烯薄膜
7 CVD法制备的石墨烯晶畴的H2刻蚀现象研究
8 CVD石墨烯晶畴的边缘刻蚀现象研究
参考文献
2 石墨烯的晶体结构和电子结构
2．1 石墨烯的晶体结构
2．2 石墨烯的电子结构
2．2．1 单层石墨烯的电子结构
2．2．2 石墨烯中无质量的狄拉克费米子
2．2．3 双层石墨烯的电子结构
2．2．4 多层石墨烯的电子结构
参考文献
3 石墨烯的性质及应用
3．1 石墨烯能带隙的打开
3．2 石墨烯基微电子器件和纳米电子器件
3．2．1 石墨烯电路中的晶体管数量
3．2．2 数字逻辑门
3．2．3 数字非易失性存储器
3．3 高频电子器件
3．3．1 模拟电压放大器
3．3．2 石墨烯环振荡器
3．4 基于分层材料的器件
3．5 新型的垂直型／平面型晶体管和器件
3．5．1 垂直隧道晶体管和垂直热电子晶体管
3．5．2 2d异质结构的面内传输
3．6 电子发射
3．7 石墨烯饱和吸收剂和相关设备
3．8 石墨烯相关应用举例
3．8．1 透明电极
3．8．2 纳米电子器件
3．8．3 储能应用
3．8．4 传感器方面的应用
3．8．5 复合材料方面的应用
参考文献
4 石墨烯的制备、表征及转移
4．1 干法剥离
4．1．1 用于研究目的的机械剥离
4．1．2 阳极键合
4．1．3 激光烧蚀和光剥离
4．2 液相剥离
4．2．1 石墨的液相剥离
4．2．2 氧化石墨的液相剥离
4．2．3 插层石墨的液相剥离
4．3 SiC热蒸发法
4．4 化学气相沉积（CVD）
4．4．1 金属衬底上热CVD法制备石墨烯
4．4．2 绝缘衬底上热CVD法制备石墨烯
4．4．3 CVD法制备大尺寸石墨烯晶畴
4．5 其他制备方法
4．5．1 过渡金属表面析出法
4．5．2 碳纳米管解理法
4．6 石墨烯的表征技术
4．6．1 光学显微镜
4．6．2 原子力显微镜
4．6．3 扫描电子显微镜
4．6．4 透射电子显微镜
4．6．5 拉曼光谱
4．7 石墨烯的转移技术
参考文献
……
5 CVD法在单晶Mo膜衬底上制备高质量石墨烯薄膜
6 CVD法在抛光Cu衬底上制备高质量石墨烯薄膜
7 CVD法制备的石墨烯晶畴的H2刻蚀现象研究
8 CVD石墨烯晶畴的边缘刻蚀现象研究
展开全部
石墨烯基础及氢气刻蚀 作者简介
王彬，1983年生，男，渤海大学新能源学院讲师。科研成果：利用CVD法在过渡金属衬底上制备出大面积均匀高质量石墨烯薄膜。曾出版《激光技术与太阳能电池》(王月,王彬,王春杰 箸，冶金工业出版社)。
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