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光学元件磁流变抛光理论与关键技术 版权信息
- ISBN：9787118129977
- 条形码：9787118129977 ; 978-7-118-12997-7
- 装帧：平装-胶订
- 册数：暂无
- 重量：暂无
- 所属分类：>>
光学元件磁流变抛光理论与关键技术 内容简介
本书介绍了光学元件磁流变抛光理论与关键工艺，尤其重点介绍了离轴非球面光学元件磁流变抛光关键技术。**章～第六章侧重介绍磁流变抛光的理论和工艺研究，主要针对高精度光学镜面磁流变抛光过程中的去除函数多参数模型、表面与亚表面质量控制、驻留时间高精度求解与实现、修形工艺优化方法等关键问题进行深入研究和实验验证；第七章～第十二章以离轴非球面光学零件的高精高效制造为需求牵引，针对离轴非球面磁流变抛光过程中的关键理论和工艺问题开展研究，旨在实现面形误差和特征量参数双重约束条件下的离轴非球面光学零件的磁流变抛光，形成基于磁流变抛光技术的加工工艺路线，从而进一步提高我国离轴非球面光学零件的制造水平。
光学元件磁流变抛光理论与关键技术 目录
第1章 绪论
1．1 研究背景和意义
1．1．1 高精度光学镜面的需求
1．1．2 高精度光学镜面抛光方法
1．1．3 本书研究的意义
1．2 磁流变抛光国内外研究现状
1．2．1 磁流变抛光技术发展过程
1．2．2 磁流变抛光技术国内外发展现状
1．2．3 磁流变抛光关键技术与研究热点
1．3 主要研究内容
第2章 磁流变抛光系统
2．1 计算机控制光学表面成形原理
2．1．1 计算机控制光学表面成形的理论基础
2．1．2 计算机控制光学表面成形工艺对磁流变抛光系统的基本要求
2．2 KDMRF-1000F系统组成与性能分析
2．2．1 系统组成及主要性能
2．2．2 多轴运动系统性能分析
2．2．3 循环控制系统性能分析
2．2．4 磁流变液配制与性能分析
第3章 磁流变抛光区域流体动力学分析与计算
3．1 Bingham流体动力学基本方程
3．2 抛光区域磁流变液成核状态分析
3．3 实验验证
第4章 磁流变抛光表面与亚表面质量实验分析
4．1 磁流变抛光表面质量实验分析
4．1．1 磁流变抛光表面质量影响因素分析
4．1．2 常见光学材料磁流变抛光表面粗糙度
4．2 磁流变抛光亚表面损伤实验分析
4．2．1 磁流变消除磨削亚表面裂纹层实验分析
4．2．2 磁流变消除传统抛光亚表面损伤实验分析
第5章 磁流变修形驻留时间高精度求解与实现
5．1 磁流变修形过程评价指标
5．2 磁流变修形驻留时间求解算法
5．2．1 线性方程组模型
5．2．2 加权非负广义*小残差算法
5．2．3 驻留时间求解仿真分析
5．3 基于运动系统动态性能的驻留时间实现方法
5．4 驻留时间求解与实现的联合优化
5．5 驻留时间求解与实现的实验验证
5．5．1 线性扫描加工路径
5．5．2 极轴扫描加工路径
5．6 基于熵增原理抑制磁流变修形中高频误差
5．6．1 基于熵增原理的局部随机加工路径
5．6．2 实验验证
……
第6章 高精度光学镜面磁流变抛光试验
第7章 离轴非球面加工技术简介
第8章 离轴非球面修形理论
第9章 去除函数多参数建模与实验分析
第10章 离轴非球面修形工艺
第11章 特征量参数测量与控制
第12章 加工工艺路线优化及加工实例
参考文献
1．1 研究背景和意义
1．1．1 高精度光学镜面的需求
1．1．2 高精度光学镜面抛光方法
1．1．3 本书研究的意义
1．2 磁流变抛光国内外研究现状
1．2．1 磁流变抛光技术发展过程
1．2．2 磁流变抛光技术国内外发展现状
1．2．3 磁流变抛光关键技术与研究热点
1．3 主要研究内容
第2章 磁流变抛光系统
2．1 计算机控制光学表面成形原理
2．1．1 计算机控制光学表面成形的理论基础
2．1．2 计算机控制光学表面成形工艺对磁流变抛光系统的基本要求
2．2 KDMRF-1000F系统组成与性能分析
2．2．1 系统组成及主要性能
2．2．2 多轴运动系统性能分析
2．2．3 循环控制系统性能分析
2．2．4 磁流变液配制与性能分析
第3章 磁流变抛光区域流体动力学分析与计算
3．1 Bingham流体动力学基本方程
3．2 抛光区域磁流变液成核状态分析
3．3 实验验证
第4章 磁流变抛光表面与亚表面质量实验分析
4．1 磁流变抛光表面质量实验分析
4．1．1 磁流变抛光表面质量影响因素分析
4．1．2 常见光学材料磁流变抛光表面粗糙度
4．2 磁流变抛光亚表面损伤实验分析
4．2．1 磁流变消除磨削亚表面裂纹层实验分析
4．2．2 磁流变消除传统抛光亚表面损伤实验分析
第5章 磁流变修形驻留时间高精度求解与实现
5．1 磁流变修形过程评价指标
5．2 磁流变修形驻留时间求解算法
5．2．1 线性方程组模型
5．2．2 加权非负广义*小残差算法
5．2．3 驻留时间求解仿真分析
5．3 基于运动系统动态性能的驻留时间实现方法
5．4 驻留时间求解与实现的联合优化
5．5 驻留时间求解与实现的实验验证
5．5．1 线性扫描加工路径
5．5．2 极轴扫描加工路径
5．6 基于熵增原理抑制磁流变修形中高频误差
5．6．1 基于熵增原理的局部随机加工路径
5．6．2 实验验证
……
第6章 高精度光学镜面磁流变抛光试验
第7章 离轴非球面加工技术简介
第8章 离轴非球面修形理论
第9章 去除函数多参数建模与实验分析
第10章 离轴非球面修形工艺
第11章 特征量参数测量与控制
第12章 加工工艺路线优化及加工实例
参考文献
展开全部
光学元件磁流变抛光理论与关键技术 作者简介
石峰，国防科技大学智能科学学院，研究员。获 技术发明二等奖1项，军队科技进步一等奖1项，授权发明专利30项；发表学术论文40篇，其中SCI检索17篇、EI检索15篇，出版专著4部。学校青年拔尖人才培养对象，军队 专业技术人才三类岗。宋辞，国防科技大学智能科学学院，副研究员，长期从事 光学制造装备与工艺研究。发表SCI论文10余篇，EI论文20余篇，授权发明专利8项，获军队科技进步一等奖1项。
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