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宽禁带化合物半导体材料与器件(第二版)

作者：朱丽萍

出版社：浙江大学出版社出版时间：2023-01-01

开本：其他页数： 214

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版权信息
内容简介
目录
作者简介

宽禁带化合物半导体材料与器件(第二版) 版权信息

ISBN：9787308229159
条形码：9787308229159 ; 978-7-308-22915-9
装帧：一般胶版纸
册数：暂无
重量：暂无
所属分类：
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电工基础理论

宽禁带化合物半导体材料与器件(第二版) 内容简介

全书共10章，主要内容为：绪论；化合物半导体材料基础；化合物半导体中的缺陷；宽带隙半导体发光；化合物半导体器件基本原理，包括pn结、超晶格与量子阱；宽带隙化合物半导体材料及其器件的应用，主要介绍SiC、GaN、ZnO和Ga2O3的研究现状。本书在内容取材和安排上具有以下特点：（1）简明扼要、重点突出地介绍了半导体材料与器件的基本概念和基础理论，帮助学生建立清晰的半导体材料与器件的知识体系；（2）通过总结浙江大学硅材料国家重点实验室多年的研究成果，结合化合物半导体材料的近期新研究进展，对几种重要的宽禁带化合物半导体材料的基础研究及器件应用做了详细的阐述。本书可作为高等院校半导体材料、微电子与固体电子学及相关专业研究生和本科高年级学生学习化合物半导体材料和器件的教材，也可为从事化合物半导体材料和器件研究的科研和工程技术人员提供参考。

宽禁带化合物半导体材料与器件(第二版) 目录

第1章绪论
1.1 宽带隙半导体概念
1.2 常见宽禁带化合物半导体
思考题
参考文献
第2章化合物半导体材料基础
2.1 半导体
2.2 半导体材料的分类
2.2.1 元素半导体
2.2.2 化合物半导体
2.2.3 半导体固溶体
2.3 化合物半导体的特性
2.3.1 化合物半导体的晶体结构和化合键
2.3.2 化合物半导体的能带结构
思考题
参考文献
第3章固化合物半导体中的缺陷
3.1 缺陷理论基础
3.1.1 点缺陷的分类
3.1.2 点缺陷的符号表示方法
3.1.3 点缺陷在半导体中的施主或受主作用及它们的能级位置
3.2 ZnO中的杂质与缺陷
3.2.1 ZnO中的本征点缺陷
3.2.2 ZnO中绿色发光起源
3.2.3 ZnO中的故意掺杂
思考题
参考文献
第4章宽带隙半导体发光
4.1 半导体中的光跃迁
4.1.1 半导体吸收跃迁
4.1.2 半导体中的带间跃迁辐射复合发光
4.2 激子
4.3 半导体发光光谱和辐射复合
4.4 激子复合
4.5 深能级中心相关的发光跃迁
4.6 时间分辨发光光谱
4.7 宽带隙半导体材料发光研究实例
思考题
参考文献
第5章 pn结
5.1 同质结
5.1.1 热平衡状态下的pn结
5.1.2 pn结的伏安特性
5.2 异质结
5.2.1 异质结的能带图
5.2.2 异型异质结的电学特性
思考题
参考文献
第6章超晶格与量子阱
6.1 超晶格和量子阱发展概况
6.2 量子阱
6.3 超晶格
6.3.1 复合超晶格
6.3.2 掺杂超晶格
6.3.3 应变超晶格
6.3.4 多维超晶格
6.4 量子阱与超晶格的实验制备方法
6.5 超晶格和量子阱中的物理基础
6.5.1 半导体中的两类载流子：电子(n)与空穴(p)
6.5.2 超晶格和量子阱的能带结构
6.5.3 量子阱与超晶格中的电子态
6.5.4 超晶格中的电子状态
6.6 超晶格和量子阱中的物理效应
6.6.1 量子约束效应
6.6.2 量子阱中的激子效应
6.6.3 量子受限的斯塔克效应(QCSE)
6.6.4 电场下超晶格中的Wannier-Stark局域态
6.6.5 二维电子气
6.7 超晶格和量子阱器件
6.7.1 量子阱激光器发展历程
6.7.2 垂直腔面发射激光器
6.7.3 新型的量子阱激光器
6.7.4 主要应用
思考题
参考文献
第7章 SiC
7.1 SiC的基本性质
7.1.1 物理性质和化学性质
7.1.2 晶体结构
7.1.3 电学性能和能带结构
7.2 SiC材料生长、掺杂与缺陷
7.2.1 SiC体单晶生长
7.2.2 SiC薄膜生长
7.2.3 SiC纳米结构
7.2.4 SiC的掺杂
7.2.5 SiC材料中的缺陷
7.3 SiC电子器件
7.3.1 SiC肖特基接触理论
7.3.2 肖特基势垒二极管(SBI))及其改进结构器件(JBD、MPS)
7.3.3 SiC场效应晶体管
7.3.4 SiC双极型晶体管(BJT)
7.4 SiC传感器件
7.4.1 SiC的压阻效应
7.4.2 SiC材料在气敏传感器中的应用
7.4.3 SiC材料在光电探测器中的应用
思考题
参考文献
第8章 GaN
8.1 概述
8.2 GaN的基本性质
8.2.1 物理和化学特性
8.2.2 晶体结构
8.2.3 电学性质和掺杂
8.2.4 光学性质
8.2.5 GaN与其他ⅢA族氮化物合金
8.3 GaN材料制备
8.3.1 GaN体单晶的生长
8.3.2 GaN薄膜外延生长衬底材料的选择
8.3.3 GaN外延生长技术
8.4 GaN光电器件
8.4.1 GaN基LED
8.4.2 GaN基LD
8.4.3 GaN基紫外探测器
8.4.4 GaN基电子器件
思考题
参考文献
第9章 Zn0
9.1 Zn0材料概述
9.1.1 Zn0的基本性质和能带工程
9.1.2 Zn0中的杂质与缺陷
9.1.3 Zn0的电学性能及P型掺杂
9.1.4 Zn0)的p型掺杂研究现状
9.2 传统及新颖的Zn0制备技术
9.2.1 Zn0体单晶
9.2.2 Zn0薄膜
9.2.3 Zn0纳米结构
9.3 Zn0基光电器件
9.3.1 纳米结构的掺杂与接触
9.3.2 同质结LED
9.3.3 异质结LED
9.3.4 激光二极管(LD)
9.3.5 光电探测器(PD)
9.3.6 光伏太阳能电池
9.4 ZnO基透明导电薄膜和场效应器件
9.5 ZnO基压电器件
9.6 ZnO基传感器件
9.7 ZnO基自旋器件
9.8 ZnO基光催化材料
9.9 小结
思考题
参考文献
第10章 Ga203
10.1 概述
10.2 Ga203的基本性质
10.2.1 物理和化学性质
10.2.2 晶体结构
10.2.3 电学性质和掺杂
10.2.4 光学性质
1O.3 Ga203的制备丁艺
10.3.1 单晶
10.3.2 薄膜
1O.4 Ga203功率器件
10.5 Ga203光电器件
1 O.5.1 光电探测器
10.5.2 光电晶体管
10.6 Ga203气敏传感器
10.7 Ga203其他器件应用
思考题
参考文献
缩略词

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