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一般工业技术

表面科学与薄膜技术基础

作者：张永平

出版社：科学出版社出版时间：2022-10-01

开本： B5 页数： 192

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内容简介
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表面科学与薄膜技术基础版权信息

ISBN：9787030731289
条形码：9787030731289 ; 978-7-03-073128-9
装帧：一般胶版纸
册数：暂无
重量：暂无
所属分类：
工业技术
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一般工业技术

表面科学与薄膜技术基础本书特色

本书可供化学工程、工业催化、材料科学等相关专业高校师生及相关研究人员参考学习。

表面科学与薄膜技术基础内容简介

一。薄膜动力学理论二、表面科学基础三、薄膜物理基础四、热蒸发沉积五、溅射渡膜六、化学气象沉积七、薄膜结构八、现代表面分析技术九、薄膜材料。本书可供化学工程、工业催化、材料科学等相关专业高校师生及相关研究人员参考学习。

表面科学与薄膜技术基础目录

目录前言第1章真空物理基础 11.1 真空基础知识 11.2 气体动力学理论 31.3 真空获得 101.4 真空测量 191.5 真空系统 251.6 本章小结 26习题 27参考文献 28第2章表面科学基础 292.1 表面和体材料 292.2 表面重构 332.3 表面结构缺陷 372.4 表面张力和表面能 402.5 表面吸附 432.6 表面电子结构 492.7 本章小结 52习题 52参考文献 52第3章薄膜物理基础 533.1 薄膜生长模式 533.2 形核的热力学模型 553.3 形核和生长的动力学过程 613.4 团簇的聚结与耗尽 623.5 形核与生长的实验研究 653.6 本章小结 68习题 69参考文献 69第4章热蒸发沉积 704.1 蒸发的物理化学特性 704.2 薄膜厚度均匀性和纯度 764.3 热蒸发硬件 824.4 热蒸发技术的应用 854.5 本章小结 87习题 88参考文献 88第5章溅射镀膜 895.1 等离子体和汤森放电 905.2 等离子体中的反应 945.3 溅射物理 985.4 溅射沉积薄膜过程 1035.5 本章小结 108习题 108参考文献 108第6章化学气相沉积 1096.1 反应类型 1106.2 CVD热力学 1136.3 气体输运 1146.4 热CVD工艺 1186.5 等离子体CVD工艺 1206.6 激光CVD工艺 1226.7 金属有机CVD工艺 1236.8 本章小结 124习题 124参考文献 125第7章薄膜结构 1267.1 薄膜结构演化 1267.2 热蒸发沉积薄膜结构和形貌 1297.3 溅射镀膜薄膜结构和形貌 1337.4 CVD薄膜结构和形貌 1367.5 本章小结 137习题 138参考文献 138第8章现代表面分析技术 1398.1 X射线光电子能谱 1398.2 紫外光电子能谱 1498.3 X射线衍射和低能电子衍射 1528.4 扫描隧道显微镜和原子力显微镜 1568.5 振动谱 1598.6 本章小结 164习题 164参考文献 165第9章薄膜材料 1669.1 金刚石薄膜 1669.2 超硬薄膜 1739.3 半导体薄膜 1789.4 磁性存储薄膜 181习题 184参考文献 184

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