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硅基氮化镓光电探测器的多层异质外延生长研究 StudiesonPlasmaAssistedMol 版权信息
- ISBN:9787568414241
- 条形码:9787568414241 ; 978-7-5684-1424-1
- 装帧:暂无
- 册数:暂无
- 重量:暂无
- 所属分类:>
硅基氮化镓光电探测器的多层异质外延生长研究 StudiesonPlasmaAssistedMol 内容简介
本书为英文图书,研究了氮化铝缓冲层对氮化镓外延层表面形貌和晶体质量的影响,讨论了氮化镓异质外延生长中镓扩散到硅衬底中并溶解形成镓—硅合金的途径,很终经过优化得以实现利用等离子辅助分子束外延在硅(111)衬底上生长出无微晶的光滑氮化镓外延层。作者在优化过程中发现了非晶氮化硅薄层在镓/硅扩散中的阻挡缓冲作用,并利用此缓冲层优化了氮化铝镓的外延生长,很终实现了总厚度高达1.4μm氮化镓和氮化铝镓无裂纹外延层的生长。作者在研究中,利用优化生长的外延层,成功地在硅衬底上生长了应用于紫外光电探测器的多层结构,并详细研究了器件尺寸对紫外光响应性的影响;利用优化的紫外探测器机构,获得了应用于紫外/红外双波段光电探测器的多层结构并取得了0.01 A/W紫外光电响应和在4.52μm波长峰值上的近红外光电响应。书稿对这些研究过程与结果做了学理性阐释。
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