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集成电路与光刻机 版权信息
- ISBN：9787030657923
- 条形码：9787030657923 ; 978-7-03-065792-3
- 装帧：一般胶版纸
- 册数：暂无
- 重量：暂无
- 所属分类：>>
集成电路与光刻机 内容简介
光刻机是集成电路制造的核心装备，直接决定了集成电路的微细化水平。《集成电路与光刻机》介绍了集成电路与光刻机的发展历程；重点介绍了光刻机整机、分系统与曝光光源的主要功能、基本结构、工作原理、关键技术等；简要介绍了计算光刻技术；*后介绍了光刻机成像质量的提升与光刻机整机、分系统的技术进步。
集成电路与光刻机 目录
目录
第1章 集成电路发展历程
1.1 从电子管到集成电路 3
1.1.1 从电子管到晶体管 3
1.1.2 从晶体管到集成电路 9
1.2 集成电路的发展与摩尔定律 15
1.2.1 摩尔定律的提出 15
1.2.2 集成电路集成度的提升 17
1.2.3 集成电路成本的变化 21
1.2.4 集成电路的后摩尔时代 23
第2章 集成电路制造工艺
2.1 平面工艺 28
2.2 光刻工艺 30
3.1 接近/接触式光刻机 34
第3章 光刻机技术的发展
3.2 投影光刻机的发展 36
3.2.1 投影光刻机的诞生 36
3.2.2 投影光刻机曝光方式的演变 37
3.2.3 步进扫描投影光刻机的发展 42
3.3 光刻分辨率的提升 45
第4章 光刻机整机系统
4.1 光刻机整机基本结构 50
4.2 光刻机主要性能指标 57
4.2.1 分辨率 57
4.2.2 套刻精度 59
4.2.3 产率 60
4.2.4 性能指标的提升 61
4.3 光刻机的技术挑战 63
第5章 光刻机曝光光源
5.1 汞灯光源 68
5.2 准分子激光光源 70
5.3 EUV光源 73
第6章 光刻机关键分系统
6.1 照明系统 79
6.2 投影物镜系统 83
6.3 工件台/掩模台系统 88
6.4 调焦调平系统 93
6.5 对准系统 96
第7章 计算光刻
7.1 光学邻近效应修正 103
7.2 亚分辨辅助图形技术 104
7.3 光源掩模联合优化 106
7.4 反演光刻 107
第8章 光刻机成像质量的提升
8.1 光刻机的成像质量与主要性能指标 110
8.1.1 成像质量的影响因素 110
8.1.2 成像质量对光刻机性能指标的影响 111
8.2 光刻机的技术进步与成像质量提升 113
8.2.1 光刻机成像质量与像质控制 113
8.2.2 像质控制与光刻机技术进步 115
参考文献 121
第1章 集成电路发展历程
1.1 从电子管到集成电路 3
1.1.1 从电子管到晶体管 3
1.1.2 从晶体管到集成电路 9
1.2 集成电路的发展与摩尔定律 15
1.2.1 摩尔定律的提出 15
1.2.2 集成电路集成度的提升 17
1.2.3 集成电路成本的变化 21
1.2.4 集成电路的后摩尔时代 23
第2章 集成电路制造工艺
2.1 平面工艺 28
2.2 光刻工艺 30
3.1 接近/接触式光刻机 34
第3章 光刻机技术的发展
3.2 投影光刻机的发展 36
3.2.1 投影光刻机的诞生 36
3.2.2 投影光刻机曝光方式的演变 37
3.2.3 步进扫描投影光刻机的发展 42
3.3 光刻分辨率的提升 45
第4章 光刻机整机系统
4.1 光刻机整机基本结构 50
4.2 光刻机主要性能指标 57
4.2.1 分辨率 57
4.2.2 套刻精度 59
4.2.3 产率 60
4.2.4 性能指标的提升 61
4.3 光刻机的技术挑战 63
第5章 光刻机曝光光源
5.1 汞灯光源 68
5.2 准分子激光光源 70
5.3 EUV光源 73
第6章 光刻机关键分系统
6.1 照明系统 79
6.2 投影物镜系统 83
6.3 工件台/掩模台系统 88
6.4 调焦调平系统 93
6.5 对准系统 96
第7章 计算光刻
7.1 光学邻近效应修正 103
7.2 亚分辨辅助图形技术 104
7.3 光源掩模联合优化 106
7.4 反演光刻 107
第8章 光刻机成像质量的提升
8.1 光刻机的成像质量与主要性能指标 110
8.1.1 成像质量的影响因素 110
8.1.2 成像质量对光刻机性能指标的影响 111
8.2 光刻机的技术进步与成像质量提升 113
8.2.1 光刻机成像质量与像质控制 113
8.2.2 像质控制与光刻机技术进步 115
参考文献 121
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