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磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能

作者：肖剑荣著

出版社：中国水利水电出版社出版时间：2019-04-01

开本： 16开 页数： 173

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版权信息
内容简介
目录
作者简介

磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能版权信息

ISBN：9787517074397
条形码：9787517074397 ; 978-7-5170-7439-7
装帧：一般胶版纸
册数：暂无
重量：暂无
所属分类：
自然科学
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化学原理和方法

磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能内容简介

　　磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术，其制备工艺可调剂参数较多，通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控。《磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能》研究了薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能等之间的内在关系，探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性的有关物理量的变化机制。全书结构合理，条理清晰，内容丰富新颖，可供相关工程技术人员参考使用。

磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能目录

前言
第1章绪论
1．1 薄膜简介
1．2 薄膜的性质
1．3 薄膜制备技术
1．4 薄膜的表征技术

第2章氮化铜薄膜研究现状
2．1 Cu3N薄膜的制备技术
2．2 Cu3N薄膜的晶体结构
2．3 电学和光学性能
2．4 热、力学性能和耐腐蚀性
2．5 Cu3N薄膜的应用

第3章氮化铜薄膜的制备
3．1 磁控溅射技术
3．2 JGP-450a型多功能磁控溅射系统
3．3 氮化铜薄膜的制备

第4章氮化铜薄膜的结构研究
4．1 薄膜的结构分析
4．2 薄膜的表面形貌
4．3 薄膜的组分
4．4 薄膜的晶格常数

第5章氮化铜的性能研究
5．1 薄膜的电学性能
5．2 薄膜的光学性能
5．3 薄膜的热稳定性研究

第6章氮化铜的**性原理研究
6．1 概述
6．2 计算方法及过程
6．3 氮化铜的电子结构计算结果
结论与展望
参考文献
附录

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