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雷达目标散射特性测量与处理新技术

雷达目标散射特性测量与处理新技术

作者:许小剑
出版社:国防工业出版社出版时间:2017-12-01
开本: 16开 页数: 446
本类榜单:工业技术销量榜
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雷达目标散射特性测量与处理新技术 版权信息

  • ISBN:9787118114188
  • 条形码:9787118114188 ; 978-7-118-11418-8
  • 装帧:一般胶版纸
  • 册数:暂无
  • 重量:暂无
  • 所属分类:>

雷达目标散射特性测量与处理新技术 本书特色

目标RCS测量、处理和评估贯穿于隐身装备设计、研制、试验和使用维护的各个阶段。《雷达目标散射特性测量与处理技术》在对RCS测量与处理技术领域公开文献资料进行归纳和分析的同时,重点对作者所在实验室近年来在该领域的基础理论、实验和应用性研究成果进行了系统的总结,尤其是对外现有文献鲜有涉及而工程实用价值又较高的新模型、新方法和新技术进行了讨论。全书一半以上的篇幅用于阐述作者所在实验室的理论和技术研究成果。
  全书共分为8章,首先建立目标宽带散射函数和散射分布函数的概念,然后围绕可探测目标的RCS测试场和宽带成像诊断测量技术问题进行讨论,主要包括:RCS测试场和宽带相参测量雷达、低散射目标支架设计方法、新型RCS定标体与定标处理技术、背景辅助测量与提取技术、目标高分辨率诊断成像技术、极化校准测量与处理技术,以及RCS数据的处理、评估与报告等。
  《雷达目标散射特性测量与处理技术》可供从事低可探测目标设计实验、目标与环境特性、雷达目标散射现象学、武器系统仿真等技术领域的广大研究人员、工程技术人员和部队官兵参考,也可作为相关*校教师和研究生的教学与研究参考书。

雷达目标散射特性测量与处理新技术 内容简介

目标RCS测量、处理和评估贯穿于隐身装备设计、研制、试验和使用维护的各个阶段。《雷达目标散射特性测量与处理新技术》在对RCS测量与处理技术领域公开文献资料进行归纳和分析的同时,重点对作者许小剑所在实验室近年来在该领域的基础理论、实验和应用性研究成果进行了系统的总结,尤其是对国内外现有文献鲜有涉及而工程实用价值又较高的新模型、新方法和新技术进行了讨论。全书一半以上的篇幅用于阐述作者所在实验室的理论和技术研究成果。 全书共分为8章,首先建立目标宽带散射函数和散射分布函数的概念,然后围绕可探测目标的RCS测试场和宽带成像诊断测量技术问题进行讨论,主要包括:RCS测试场和宽带相参测量雷达、低散射目标支架设计方法、新型RCS定标体与定标处理技术、背景辅助测量与提取技术、目标高分辨率诊断成像技术、极化校准测量与处理技术。以及RCS数据的处理、评估与报告等。 本书可供从事低可探测目标设计实验、目标与环境特性、雷达目标散射现象学、武器系统仿真等技术领域的广大研究人员、工程技术人员和部队官兵参考,也可作为相关院校教师和研究生的教学与研究参考书。

雷达目标散射特性测量与处理新技术 目录

第1章 概论 1.1 雷达基础 1.1.1 电磁波谱与雷达频段 1.1.2 *基本的雷达系统 1.1.3 雷达方程 1.2 目标RCS的基本概念 1.2.1 目标RCS的定义及其物理意义 1.2.2 目标RCS与雷达探测 1.3 目标散射函数的概念 1.3.1 目标散射函数的定义 1.3.2 雷达系统与目标和环境的相互作用模型 1.3.3 目标散射特性的高分辨率成像测量 1.4 目标电磁散射特性测量的技术需求 参考文献 第2章 RCS测试场与测量雷达 2.1 室外测试场 2.1.1 抑制外场地面反射的不利影响 2.1.2 远场准则 2.1.3 地面平面场 2.1.4 倒V形测试场 2.1.5 高架测试场 2.1.6 动态测试场 2.2 室内测试场 2.2.1 室内紧缩场 2.2.2 室内锥形暗室 2.2.3 球面波微波暗室 2.2.4 近场非消波测试场 2.3 地面平面测试场 2.3.1 地平场的基本原理 2.3.2 目标和天线架设 2.4 地平场设计和使用中的若干问题 2.4.1 对菲涅尔区的要求 2.4.2 天线方向图影响 2.4.3 目标区增益的调整 2.4.4 目标—天线架设高度与宽带测量的矛盾 2.4.5 测试静区的平面波特性 2.5 RCS测量雷达 2.5.1 宽带波形与径向距离分辨率 2.5.2 LFM测量雷达 2.5.3 步进频率测量雷达 2.6 雷达系统性能对RCS测量的影响 2.6.1 系统飘移 2.6.2 接收机I/Q通道平衡 2.6.3 系统线性度影响 参考文献 第3章 低散射目标支架 3.1 发泡材料支架 3.1.1 发泡材料支架的造型 3.1.2 充气支架 3.2 低散射金属支架 3.2.1 低散射金属支架的外形设计 3.2.2 低散射金属支架的散射机理 3.2.3 低散射金属支架的RCS预估 3.2.4 目标与金属支架之间的耦合影响 3.3 低散射端帽 3.3.1 低散射端帽的作用 3.3.2 低散射端帽外形设计 3.3.3 利用低散射端帽测量背景电平 3.4 一个用于低RCS外形设计的万能公式 3.4.1 低散射外形设计分析 3.4.2 用于低散射外形设计的万能公式 3.4.3 设计示例—1:低散射支架设计 3.4.4 设计示例—2:低散射端帽设计 3.5 精确预估和分析低散射端帽和支架RCS特性的方法 3.5.1 低散射端帽的RCS预估 3.5.2 低散射支架的RCS预估 参考文献 第4章 目标RCS定标技术 第5章 背景测量、提取与抵消技术 第6章 高分辨率RCS诊断成像 第7章 极化测量与校准技术 第8章 RCS数据的处理、评估与报告 圭要符号表 缩略语
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雷达目标散射特性测量与处理新技术 作者简介

许小剑,1963年生,江西万安人。1983年合肥工业大学获无线电技术专业工学学士,1986年航天部二*获电磁场与微波技术专业工学硕士,1994年英*帝*理工学*高级访问学者,2002年美布拉斯加大学获博士学位。2002年以前在北京环境特性研究所从事科研和科研管理工作,2003年起任北京航空航天大学电子信息工程学*教授、博导。长期从事*防科学技术领域研究工作,主要研究方向包括遥感特征建模、分析与处理,雷达成像、图像理解与目标识别等。获*家科技进步二等奖1项,部级科技进步一等奖2项、二等奖4项、三等奖1项;***特殊津贴专家、航天总公司有突出贡献专家。合作出版专著与教材5部,发表学术论文260余篇,其中SCI和EI检索约200篇,授权发明30余件。

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