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Ⅲ—Ⅴ氮化物纳米材料的制备及性能研究

Ⅲ—Ⅴ氮化物纳米材料的制备及性能研究

作者:曹传宝著
出版社:哈尔滨工业大学出版社出版时间:2017-06-01
开本: 24cm 页数: 325页
本类榜单:工业技术销量榜
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Ⅲ—Ⅴ氮化物纳米材料的制备及性能研究 版权信息

  • ISBN:9787560358024
  • 条形码:9787560358024 ; 978-7-5603-5802-4
  • 装帧:一般胶版纸
  • 册数:暂无
  • 重量:暂无
  • 所属分类:>

Ⅲ—Ⅴ氮化物纳米材料的制备及性能研究 本书特色

本书对于从事Ⅲ-Ⅴ氮化物纳米材料研究的学者具有一定的参考作用。

Ⅲ—Ⅴ氮化物纳米材料的制备及性能研究 内容简介

本著作是作者及其课题组在Ⅲ-Ⅴ氮化物纳米材料方面多年研究工作的总结, 具有一定的系统性和前沿性, 部分内容为未发表的成果, 内容包括GaN, AlN, InN的纳米结构的制备及其性能的研究等。

Ⅲ—Ⅴ氮化物纳米材料的制备及性能研究 目录

第1章 Ⅲ-Ⅴ氮化物半导体材料简介

第2章 气相反应制备GaN纳米线的催化效应

第3章 GaN纳米带和纳米带环的生长与形成机理

第4章 碳热辅助法控制生长GaN低维结构

第5章 定向排列的孪晶GaN纳米线的制备与表征

第6章 GaN纳米柱阵列的制备及表征

第7章 Fe、Co掺杂GaN纳米线的制备及性能研究

第8章 GaN及其稀磁半导体纳米晶的制备与性能研究

第9章 GaN纳米晶体及其复合材料的制备及性能

第10章 GaN的理论模拟研究

第11章 AIN纳米结构的可控制备与表征

第12章 单晶InN纳米线的制备及表征

第13章 InN及其稀磁半导体纳米晶的制备与性能研究

参考文献

名词索引

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