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2014-专利法研究

作者：国家知识产权局条法司编

出版社：知识产权出版社出版时间：2017-03-01

开本： 32开 页数： 273

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版权信息
本书特色
内容简介
目录
作者简介

2014-专利法研究版权信息

ISBN：9787513048323
条形码：9787513048323 ; 978-7-5130-4832-3
装帧：一般胶版纸
册数：暂无
重量：暂无
所属分类：
法律
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知识产权

2014-专利法研究本书特色

《专利法研究2014》共分五个专题，即专利权的实施与保护、专利申请与审查、职务发明制度研究、专利与标准以及国际动态等方面的内容。与授权条件以及专利的运用与保护等。共收集二十余篇文章，其中既包括对专利实践热点问题的研究也包括专利基本制度的研究。

2014-专利法研究内容简介

《专利法研究2014》共分五个专题，即专利权的实施与保护、专利申请与审查、职务发明制度研究、专利与标准以及国际动态等方面的内容。与授权条件以及专利的运用与保护等。共收集二十余篇文章，其中既包括对专利实践热点问题的研究也包括专利基本制度的研究。

2014-专利法研究目录

专利权的保护标准必要专利的FRAND许可辨析侵犯专利权之非法获利赔偿责任再审视涉及数值范围选择发明中的等同侵权原则——以“科力远公司与爱蓝天公司专利侵权纠纷案”为例中国特色知识产权制度中国专利制度的实践特征及面临的挑战经济结构、专利制度与创新——论中国现阶段经济结构对专利制度运行的影响中国知识产权保护强度类型比较实证研究中国专利保护强度的国际比较实证研究知识产权基本法框架体系研究国际知识产权动态以案观法——美国专利实用性审查标准研究初探基因专利相关问题分析——从美国联邦*高法院“人类基因专利”案说起澳大利亚《创新专利制度评价》述评——兼论对我国实用新型专利制度的评价研究美国外观设计图片文字解释的释义、辨析与反思海牙体系下美国外观设计专利程序的调整及其评议 TPP专利谈判中各缔约国的利益诉求和谈判策略研究——以“可获得专利的主题”条款为视角集成电路布图设计集成电路布图设计知识产权保护集成电路布图设计保护制度热点问题研究集成电路布图设计登记的条件、要求和效能

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