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硅化钼的氧化 版权信息
- ISBN：9787030482495
- 条形码：9787030482495 ; 978-7-03-048249-5
- 装帧：一般胶版纸
- 册数：暂无
- 重量：暂无
- 所属分类：>>
硅化钼的氧化 本书特色
本书在总结氧化理论的基础上，收集了近年来国内外在硅化钼氧化方面的研究成果，重点介绍了作者十多年来的研究进展，包括二硅化钼及其复合材料的氧化性能和氧化机理、硅化钼涂层的制备及其氧化性能，给出了硅化钼高温抗氧化涂层的设计思想与不同基体的应用实例。
硅化钼的氧化 内容简介
POD产品说明： 1. 本产品为按需印刷（POD）图书，实行先付款，后印刷的流程。您在页面购买且完成支付后，订单转交出版社。出版社根据您的订单采用数字印刷的方式，单独为您印制该图书，属于定制产品。 2. 按需印刷的图书装帧均为平装书（含原为精装的图书）。由于印刷工艺、彩墨的批次不同，颜色会与老版本略有差异，但通常会比老版本的颜色更准确。原书内容含彩图的，统一变成黑白图，原书含光盘的，统一无法提供光盘。 3. 按需印刷的图书制作成本高于传统的单本成本，因此售价高于原书定价。 4. 按需印刷的图书，出版社生产周期一般为15个工作日（特殊情况除外）。请您耐心等待。 5. 按需印刷的图书，属于定制产品，不可取消订单，无质量问题不支持退货。
硅化钼的氧化 目录
前言
第1章 硅化钼简述
1．1 硅化钼的晶体结构
1．2 硅化钼的相图
1．3 硅化钼的性能
1．3．1 力学性能
1．3．2 氧化性能
1．3．3 摩擦磨损性能
1．4 硅化钼的发展简述
1．5 硅化钼的制备技术
1．5．1 机械合金化
1．5．2 自蔓延高温合成
1．5．3 放电等离子烧结
1．6 硅化钼的应用前景
1．6．1 高温结构材料
1．6．2 发热元件
1．6．3 高温抗氧化涂层
参考文献
第2章 氧化基本理论
2．1 引言
2．2 氧化的基本过程
2．3 氧化的主要影响因素
2．3．1 材料特性
2．3．2 氧化膜性质
2．3．3 氧化膜/金属界面
2．3．4 氧化膜/气体界面
2．3．5 气相环境
2．4 氧化热力学
2．4．1 基本氧化热力学
2．4．2 硅化钼氧化反应的△G0-T图
2．4．3 挥发性物质对氧化的影响
2．5 氧化动力学
2．5．1 静态氧化动力学规律
2．5．2 循环氧化动力学
2．6 氧化基础理论
2．6．1 纯金属的氧化理论
2．6．2 合金的氧化
2．7 氧化的测试与研究方法
2．7．1 引言
2．7．2 氧化动力学实验
2．7．3 氧化膜的传质实验
2．7．4 氧化样品的观察与分析
参考文献
第3章 硅化钼的氧化
3．1 二硅化钼（MoSi2）的氧化
3．1．1 低温氧化（400-700℃）
3．1．2 高温氧化
3．2 三硅化五钼（Mo5Si603）氧化
3．3 硅化三钼（Mo3Si）的氧化
3．3．1 Mo3Si的氧化
3．3．2 Mo3Si-Mo5Si3的氧化
参考文献
第4章 二硅化钼基复合材料的氧化
4．1 Al/MoSi2复合材料的氧化性能
4．1．1 低温氧化性能
4．1．2 高温氧化性能
4．2 WSi2/MoSi2复合材料的氧化
4．2．1 低温氧化性能
4．2．2 高温氧化性能
4．3 稀土/MoSi2复合材料氧化行为
4．3．1 低温氧化性能
4．3．2 高温氧化性能
4．4 SiC/MoSi2复合材料的氧化行为
4．4．1 低温氧化性能
4．4．2 高温氧化性能
4．5 Mo5Si3/MoSi2复合材料
4．5．1 低温氧化性能
4．5．2 高温氧化性能
4．5．3 0．8％La203（质量分数）-M05Si3/MoSi2复合材料的高温氧化行为
4．6 CNTs/MoSi2复合材料
4．6．1 低温氧化性能
4．6．2 高温氧化性能
4．7 其他部分MoSi2基复合材料的高温氧化性能
参考文献
第5章 硅化钼涂层的氧化
5．1 硅化钼涂层的设计
5．2 硅化钼涂层的制备
5．2．1 料浆法
5．2．2 气相沉积法
5．2．3 粉末包渗法
5．2．4 等离子喷涂法
5．2．5 熔盐法
5．2．6 其他制备方法
5．3 硅化钼涂层的氧化
5．3．1 钼基硅化钼涂层的氧化
5．3．2 镍基硅化钼涂层的氧化
5．3．3 铌基硅化钼涂层的氧化
5．3．4 碳基硅化钼涂层的氧化
5．4 硅化钼涂层的发展趋势
参考文献
第1章 硅化钼简述
1．1 硅化钼的晶体结构
1．2 硅化钼的相图
1．3 硅化钼的性能
1．3．1 力学性能
1．3．2 氧化性能
1．3．3 摩擦磨损性能
1．4 硅化钼的发展简述
1．5 硅化钼的制备技术
1．5．1 机械合金化
1．5．2 自蔓延高温合成
1．5．3 放电等离子烧结
1．6 硅化钼的应用前景
1．6．1 高温结构材料
1．6．2 发热元件
1．6．3 高温抗氧化涂层
参考文献
第2章 氧化基本理论
2．1 引言
2．2 氧化的基本过程
2．3 氧化的主要影响因素
2．3．1 材料特性
2．3．2 氧化膜性质
2．3．3 氧化膜/金属界面
2．3．4 氧化膜/气体界面
2．3．5 气相环境
2．4 氧化热力学
2．4．1 基本氧化热力学
2．4．2 硅化钼氧化反应的△G0-T图
2．4．3 挥发性物质对氧化的影响
2．5 氧化动力学
2．5．1 静态氧化动力学规律
2．5．2 循环氧化动力学
2．6 氧化基础理论
2．6．1 纯金属的氧化理论
2．6．2 合金的氧化
2．7 氧化的测试与研究方法
2．7．1 引言
2．7．2 氧化动力学实验
2．7．3 氧化膜的传质实验
2．7．4 氧化样品的观察与分析
参考文献
第3章 硅化钼的氧化
3．1 二硅化钼（MoSi2）的氧化
3．1．1 低温氧化（400-700℃）
3．1．2 高温氧化
3．2 三硅化五钼（Mo5Si603）氧化
3．3 硅化三钼（Mo3Si）的氧化
3．3．1 Mo3Si的氧化
3．3．2 Mo3Si-Mo5Si3的氧化
参考文献
第4章 二硅化钼基复合材料的氧化
4．1 Al/MoSi2复合材料的氧化性能
4．1．1 低温氧化性能
4．1．2 高温氧化性能
4．2 WSi2/MoSi2复合材料的氧化
4．2．1 低温氧化性能
4．2．2 高温氧化性能
4．3 稀土/MoSi2复合材料氧化行为
4．3．1 低温氧化性能
4．3．2 高温氧化性能
4．4 SiC/MoSi2复合材料的氧化行为
4．4．1 低温氧化性能
4．4．2 高温氧化性能
4．5 Mo5Si3/MoSi2复合材料
4．5．1 低温氧化性能
4．5．2 高温氧化性能
4．5．3 0．8％La203（质量分数）-M05Si3/MoSi2复合材料的高温氧化行为
4．6 CNTs/MoSi2复合材料
4．6．1 低温氧化性能
4．6．2 高温氧化性能
4．7 其他部分MoSi2基复合材料的高温氧化性能
参考文献
第5章 硅化钼涂层的氧化
5．1 硅化钼涂层的设计
5．2 硅化钼涂层的制备
5．2．1 料浆法
5．2．2 气相沉积法
5．2．3 粉末包渗法
5．2．4 等离子喷涂法
5．2．5 熔盐法
5．2．6 其他制备方法
5．3 硅化钼涂层的氧化
5．3．1 钼基硅化钼涂层的氧化
5．3．2 镍基硅化钼涂层的氧化
5．3．3 铌基硅化钼涂层的氧化
5．3．4 碳基硅化钼涂层的氧化
5．4 硅化钼涂层的发展趋势
参考文献
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