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新型显示-产业专利分析报告-(第32册) 版权信息
- ISBN：9787513033442
- 条形码：9787513033442 ; 978-7-5130-3344-2
- 装帧：一般胶版纸
- 册数：暂无
- 重量：暂无
- 所属分类：>>
新型显示-产业专利分析报告-(第32册) 本书特色
本书是新型显示行业的专利分析报告。报告从该行业的专利（国内、国外）申请、授权、申请人的已有专利状态、其他先进国家的专利状况、同领域领先企业的专利壁垒等方面入手，充分结合相关数据，展开分析，并得出分析结果。本书是了解该行业技术发展现状并预测未来走向，帮助企业做好专利预警的**工具书。
新型显示-产业专利分析报告-(第32册) 内容简介
本书是新型显示行业的专利分析报告。报告从该行业的专利（国内、国外）申请、授权、申请人的已有专利状态、其他先进国家的专利状况、同领域领先企业的专利壁垒等方面入手，充分结合相关数据，展开分析，并得出分析结果。本书是了解该行业技术发展现状并预测未来走向，帮助企业做好专利预警的**工具书。
新型显示-产业专利分析报告-(第32册) 目录
第1章 前言
1.1 研究背景
1.1.1 激光显示技术发展概况
1.1.2 激光显示技术产业现状
1.1.3 激光显示技术产业需求
1.2 研究对象和方法
1.2.1 技术分解
1.2.2 检索策略
1.2.3 报告体系
第2章 激光激发荧光技术专利分析
2.1 概述
2.2 全球专利态势分析
2.2.1 申请趋势分析
2.2.2 申请区域分布
2.2.3 申请人
2.3 中国专利态势分析
2.3.1 申请趋势分析
2.3.2 省市分布
2.3.3 国内/国外申请人分布
2.3.4 国内申请的法律状态和类型分布
2.4 专利技术发展分析
2.4.1 技术构成分析
2.4.2 技术发展路线分析
2.4.3 技术功效分析
2.5 早期基础性专利分析
2.5.1 日本nec和爱普生早期基础性专利分析
2.5.2 中国光峰光电早期基础性专利分析
2.5.3 飞利浦早期基础性专利分析
2.5.4 早期基础性专利的启示
2.6 小结
第3章 激光显示屏幕专利分析
3.1 概述
3.2 全球专利态势分析
3.2.1 申请趋势分析
3.2.2 申请区域分布
3.2.3 申请人
3.3 中国专利态势分析
3.3.1 申请趋势分析
3.3.2 省市分布
3.3.3 国内/国外申请人分布
3.3.4 国内申请的法律状态和类型分析
3.4 专利技术发展分析
3.4.1 技术构成分析
3.4.2 技术发展路线分析
3.4.3 技术功效分析
3.5 小结
第4章 三地激光激发荧光技术发展对比分析
4.1 概述
4.2 中国大陆主要创新主体发展状况
4.2.1 光峰光电
4.2.2 海信
4.2.3 威创视讯
4.2.4 中国华录
4.2.5 雅图
4.2.6 科汀光学
4.2.7 亿思达
4.2.8 南京欧帝
4.2.9 深圳大学
4.3 中国台湾主要创新主体发展状况
4.3.1 台达电子
4.3.2 中强光电
4.3.3 明基友达
4.3.4 宏碁
4.3.5 鸿海集团
4.4 日本主要创新主体发展状况
4.4.1 卡西欧
4.4.2 爱普生
4.4.3 nec
4.4.4 理光
4.4.5 美蓓亚
4.4.6 松下
4.4.7 奥林巴斯
4.4.8 夏普
4.4.9 日立
4.5 进入激光激发荧光技术领域的三地企业
4.5.1 企业与激光显示产品相关的主营业务比较
4.5.2 产品比较
4.6 专利情况比较
4.6.1 申请量比较
4.6.2 *早提出时间比较
4.6.3 主要企业专利比较
4.6.4 三地主要专利技术比较
4.7 小结
第5章 微视公司激光显示技术专利分析
5.1 概述
5.2 微视公司专利态势分析
5.2.1 历年专利申请量
5.2.2 目标国家/地区分析
5.2.3 主要目标国家/地区历年专利申请量
5.3 发明人团队
5.3.1 核心发明人主导的研发模式
5.3.2 发明人数量分析
5.3.3 专利申请与经营状况分析
5.3.4 收购专利的发明人分析
5.3.5 主要发明人
5.4 微视公司产品专利透视
5.4.1 视网膜显示
5.4.2 条形码扫描器
5.4.3 微型投影仪
5.4.4 平视显示器（hud）
5.4.5 内窥镜
5.5 小结
第6章 行业典型专利策略研究
6.1 概述
6.2 微视公司专利申请策略
6.2.1 合理利用临时申请
6.2.2 积极利用延续申请
6.3 核心技术保护策略
6.3.1 技术来源分析
6.3.2 对来源技术改进分析
6.3.3 美国专利布局分析
6.3.4 核心专利全球布局分析
6.4 专利组合价值评价
6.5 合作开发和专利收购分析
6.5.1 合作研发
6.5.2 专利收购
6.5.3 专利许可与共同研发
6.6 小结
第7章 结论
1.1 研究背景
1.1.1 激光显示技术发展概况
1.1.2 激光显示技术产业现状
1.1.3 激光显示技术产业需求
1.2 研究对象和方法
1.2.1 技术分解
1.2.2 检索策略
1.2.3 报告体系
第2章 激光激发荧光技术专利分析
2.1 概述
2.2 全球专利态势分析
2.2.1 申请趋势分析
2.2.2 申请区域分布
2.2.3 申请人
2.3 中国专利态势分析
2.3.1 申请趋势分析
2.3.2 省市分布
2.3.3 国内/国外申请人分布
2.3.4 国内申请的法律状态和类型分布
2.4 专利技术发展分析
2.4.1 技术构成分析
2.4.2 技术发展路线分析
2.4.3 技术功效分析
2.5 早期基础性专利分析
2.5.1 日本nec和爱普生早期基础性专利分析
2.5.2 中国光峰光电早期基础性专利分析
2.5.3 飞利浦早期基础性专利分析
2.5.4 早期基础性专利的启示
2.6 小结
第3章 激光显示屏幕专利分析
3.1 概述
3.2 全球专利态势分析
3.2.1 申请趋势分析
3.2.2 申请区域分布
3.2.3 申请人
3.3 中国专利态势分析
3.3.1 申请趋势分析
3.3.2 省市分布
3.3.3 国内/国外申请人分布
3.3.4 国内申请的法律状态和类型分析
3.4 专利技术发展分析
3.4.1 技术构成分析
3.4.2 技术发展路线分析
3.4.3 技术功效分析
3.5 小结
第4章 三地激光激发荧光技术发展对比分析
4.1 概述
4.2 中国大陆主要创新主体发展状况
4.2.1 光峰光电
4.2.2 海信
4.2.3 威创视讯
4.2.4 中国华录
4.2.5 雅图
4.2.6 科汀光学
4.2.7 亿思达
4.2.8 南京欧帝
4.2.9 深圳大学
4.3 中国台湾主要创新主体发展状况
4.3.1 台达电子
4.3.2 中强光电
4.3.3 明基友达
4.3.4 宏碁
4.3.5 鸿海集团
4.4 日本主要创新主体发展状况
4.4.1 卡西欧
4.4.2 爱普生
4.4.3 nec
4.4.4 理光
4.4.5 美蓓亚
4.4.6 松下
4.4.7 奥林巴斯
4.4.8 夏普
4.4.9 日立
4.5 进入激光激发荧光技术领域的三地企业
4.5.1 企业与激光显示产品相关的主营业务比较
4.5.2 产品比较
4.6 专利情况比较
4.6.1 申请量比较
4.6.2 *早提出时间比较
4.6.3 主要企业专利比较
4.6.4 三地主要专利技术比较
4.7 小结
第5章 微视公司激光显示技术专利分析
5.1 概述
5.2 微视公司专利态势分析
5.2.1 历年专利申请量
5.2.2 目标国家/地区分析
5.2.3 主要目标国家/地区历年专利申请量
5.3 发明人团队
5.3.1 核心发明人主导的研发模式
5.3.2 发明人数量分析
5.3.3 专利申请与经营状况分析
5.3.4 收购专利的发明人分析
5.3.5 主要发明人
5.4 微视公司产品专利透视
5.4.1 视网膜显示
5.4.2 条形码扫描器
5.4.3 微型投影仪
5.4.4 平视显示器（hud）
5.4.5 内窥镜
5.5 小结
第6章 行业典型专利策略研究
6.1 概述
6.2 微视公司专利申请策略
6.2.1 合理利用临时申请
6.2.2 积极利用延续申请
6.3 核心技术保护策略
6.3.1 技术来源分析
6.3.2 对来源技术改进分析
6.3.3 美国专利布局分析
6.3.4 核心专利全球布局分析
6.4 专利组合价值评价
6.5 合作开发和专利收购分析
6.5.1 合作研发
6.5.2 专利收购
6.5.3 专利许可与共同研发
6.6 小结
第7章 结论
展开全部
新型显示-产业专利分析报告-(第32册) 作者简介
国家知识产权局，原名中国专利局。1980年经国务院批准成立。1998年国务院机构改革，中国专利局更名为国家知识产权局，成为国务院的直属机构，主管专利工作和统筹协调涉外知识产权事宜。 杨铁军,中共党员，汉族，1955年12月生，北京人，研究员，毕业于长春邮电学院。1983年至1998年任中国专利局电学发明审查部审查员、副室主任、副部长；1998年至2003年任国家知识产权局专利局电学发明审查部副部长、部长；2004年任国家知识产权局专利局通信发明审查部部长；2004年至2006年任国家知识产权局专利局秘书长、审查业务管理部部长等职务；2006年7月至今，任国家知识产权局副局长、党组成员。
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