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日本专利申请指南

日本专利申请指南

作者:聂宁乐
出版社:知识产权出版社出版时间:2015-04-01
开本: 16开 页数: 386
本类榜单:法律销量榜
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日本专利申请指南 版权信息

  • ISBN:9787513034616
  • 条形码:9787513034616 ; 978-7-5130-3461-6
  • 装帧:一般胶版纸
  • 册数:暂无
  • 重量:暂无
  • 所属分类:>>

日本专利申请指南 本书特色

本书对日本专利法、实用新型法、外观设计法及相关法律法规进行了系统梳理,归纳总结出三步法律的共通性规定,并从实际运用结合系统理论的角度,按照时间顺序展开,对三种专利的申请、审查、授权以及授权后的延长登记、无效、订正制度进行了详细说明,以期对我国专利申请人有所裨益。

日本专利申请指南 内容简介

1.本书是在日本申请专利的全面的介绍,特别是程序事项介绍得比较详尽。 2.目前市场上尚没有介绍日本专利申请的图书,本书具有很强的实务操作性。 3.本书的作者在日本具有多年专利申请的经验,直接用中文的表述方式,而不是日本翻译方式,更容易使中国读者理解和接受。

日本专利申请指南 目录

目录
前言
**部分 日本专利制度概览
第1章 日本专利制度的历史与现状
1.1 日本的专利法律的历史
1.2 现行专利制度体系

第2章 程序上的通则
2.1 权利能力、程序能力、代理人等
2.2 期间、救济
2.3 新颖性丧失例外
2.4 手续、处分等
2.5 费用
第二部分 专利和实用新型
第1章 申请文件的准备
1.1 应当提交的申请文件
1.2 确定请求保护的主题
1.3 权利要求的布局
1.4 说明书及附图
1.5 权利要求书
第2章 申请和审查
2.1 专利申请的流程
2.2 加快审查
2.3 外文文件申请制度
2.4 分案申请
2.5 变更申请
2.6 pct申请
第3章 实质审查程序
3.1 概览
3.2 单一性和审查对象的选择
3.3 驳回理由通知
3.4 提交意见书、补正书
第4章 专利要件
4.1 “发明”的定义与产业可利用性
4.2 不得被授予专利的发明
4.3 发明的认定
4.4 新颖性
4.5 创造性
4.6 抵触申请
4.7 重复授权
第5章 特殊领域的发明
5.1 计算机软件及商业方法相关发明
第6章 申请文件的补正
6.1 补正概论
6.2 说明书、权利要求书、附图的补正
6.3 具体判断
6.4 小结与建议
7.1 程序
7.3 审理
7.4 审决
7.5 小结与建议
第8章 授权后程序
8.1 存续期间延长制度
8.2 订正审判和订正请求
8.3 无效审判
8.4 判定
第9章 实用新型注册申请
9.1 概况
9.2 申请的流程
9.3 实用新型注册和实用新型权
9.4 实用新型技术评价
9.5 订正
9.6 无效审判
第三部分 外观设计
第1章 概览
第2章 外观设计的保护客体和保护形式
2.1 “外观设计”的定义和工业可利用性
2.2 部分外观设计
2.3 电子图像外观设计
2.4 关联外观设计
2.5 成套物品的外观设计
2.6 动态外观设计
第3章 外观设计的授权要件
3.1 新颖性
3.2 创作性
3.3 在先申请的一部分
3.4 重复授权
3.5 不得准许外观设计注册的情况
第4章 申请、审查、审判
4.1 申请
4.2 审查
4.3 审判
第5章 外观设计权
5.1 外观设计权的产生、效力
5.2 外观设计权的范围
5.3 外观设计的冲突、利用
第四部分 日本专利制度及申请策略简述
第1章 与申请有关的实用信息
1.1 专利文献检索
1.2 审查过程文件、审判决定查询
1.3 j-platpat检索平台
第2章 日本有而中国没有的制度
2.1 外文申请
2.2 申请的变更
2.3 订正审判
2.4 专利权存续期限的延长
2.5 临时许可
2.6 多种法定实施权
2.7 实用新型权人“无过失赔偿责任”
2.8 外观设计专利保护期限及方式
2.9 外观设计申请的实质审查
2.10 外观设计申请的补正拒回后再申请制度
第3章 专利和实用新型申请
3.1 申请的方式
3.2 权利要求书的准备
3.3 加快审查的方式
3.4 答复驳回理由通知
第4章 专利权和专利权的行使
4.1 专利权的范围
4.2 间接侵权
4.3 专利权的行使
附录 2014年法律修订要点

参考文献
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日本专利申请指南 作者简介

聂宁乐 女,1978年生,1999年毕业于南开大学电子系,获理学学士学位,2007年毕业于北京师范大学外文学院,获日语语言文学硕士学位,2004年取得司法职业资格,2006年取得专利代理人资格。在信息技术领域从事了5年的研发工作之后,于2004年起进入专利行业,依次任职于中科专利商标代理有限公司、日本河野专利事务所,现为隆天国际知识产权代理有限公司专利代理人。在日本AIPPI杂志上发表有数篇论文,并曾在日本关西专利研究会、日本知识产权协会、AIPPI日本分会等协会团体举办的研讨会担任专题讲师。

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