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薄膜物理与器件 版权信息
- ISBN：9787118072389
- 条形码：9787118072389 ; 978-7-118-07238-9
- 装帧：暂无
- 册数：暂无
- 重量：暂无
- 所属分类：>>
薄膜物理与器件 内容简介
《薄膜物理与器件》主要论述了薄膜物理与薄膜器件的基本内容，并概括介绍了在新材料技术领域中有着重要应用的几类主要的薄膜材料。书中比较系统地介绍了薄膜的物理化学制备原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术等；同时介绍了薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体性质、磁学性质、超导性质等；此外，还扼要介绍了几类重要薄膜材料及其性能，分析归纳了相关研究发展动态。 《薄膜物理与器件》可作为材料科学与工程、电子科学与工程、电子材料与元器件、半导体物理与器件、应用物理学等专业的教材或教学参考书，也可供相关科技、企业、公司的管理和技术人员参考。
薄膜物理与器件 目录
**章 真空技术基础
1.1 真空基础
1.2 稀薄气体的性质
1.3 真空的获得
1.4 真空的测量
习题与思考题
第二章 薄膜的物理制备工艺学
2.1 薄膜制备方法概述
2.2 真空蒸发镀膜
2.3 溅射镀膜
2.4 离子束镀膜
2.5 分子束外延技术
2.6 脉冲激光沉积技术
习题与思考题
第三章 薄膜的化学制备工艺学
1.1 真空基础
1.2 稀薄气体的性质
1.3 真空的获得
1.4 真空的测量
习题与思考题
第二章 薄膜的物理制备工艺学
2.1 薄膜制备方法概述
2.2 真空蒸发镀膜
2.3 溅射镀膜
2.4 离子束镀膜
2.5 分子束外延技术
2.6 脉冲激光沉积技术
习题与思考题
第三章 薄膜的化学制备工艺学
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