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摄影曝光控制

摄影曝光控制

出版社:上海人民美术出版社出版时间:2011-03-01
开本: 16开 页数: 144
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摄影曝光控制 版权信息

  • ISBN:9787532270880
  • 条形码:9787532270880 ; 978-7-5322-7088-0
  • 装帧:暂无
  • 册数:暂无
  • 重量:暂无
  • 所属分类:>>

摄影曝光控制 本书特色

  《摄影曝光控制》是中国高等院校摄影专业系列教材之一。   本书包含了“技术性正确曝光”和“创意性准确曝光”两方面的内容。阅读本书能够让读者在学习曝光的物理原理的同时了解到控制暴光是摄影师在摄影创作中实现主观创作意图的重要手段。

摄影曝光控制 内容简介

  曝光是摄影成像的物理基础,控制曝光是摄影师在摄影创作中实现主观创作意图的重要手段。摄影的曝光控制是一项复杂的系统工作,不能被简单置于纯技术语境中加以研究,而应将其提高到艺术创作的层面进行综合分析和应用。因此,摄影曝光控制包含了“技术性正确曝光”和“创意性准确曝光”两方面的内容。  

摄影曝光控制 目录

1  曝光的控制与评价系统
  曝光的技术控制系统
  曝光的评价手段
2  曝光对画面效果的影响
  对色彩的影响
  对颗粒度(噪点)的影响
  对细节层次的影响
  对反差的影响
  对胶片互易律的影响
3  测光
  测光表与基准反光率
  量光与订光
  单一光源照明的量光技巧
  混合光源照明的量光技巧
4  拍摄阶段的曝光控制
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摄影曝光控制 作者简介

 于文灏 2001年本科毕业于北京电影学院摄影系,获学士学位;2002年留学英国,毕业于肯特艺术与设计学院摄影系,获肯特大学与肯特艺术与设计学院联合颁发的硕士学位;毕业作品《Visions of China》在英国主流摄影刊物《Photoworks》上发表,并于2008年受荷兰Noortlight摄影基金会邀请,在荷兰历史悠久的摄影画廊Noortlight Photogallery展出;摄影专著《人像摄影》一书,已由人民美术出版社出版发行;2005年至今担任上海交通大学媒体与设计学院讲?。

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