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一般工业技术

工程光学

作者：单越康

出版社：华中科技大学出版社出版时间：2011-01-01

所属丛书：普通高等学校测控技术与仪器专业规划教材

开本： 16开 页数： 250

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版权信息
本书特色
内容简介
目录

工程光学版权信息

ISBN：9787560967790
条形码：9787560967790 ; 978-7-5609-6779-0
装帧：一般胶版纸
册数：暂无
重量：暂无
所属分类：
工业技术
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一般工业技术

工程光学本书特色

本书系统地介绍了工程光学的基本原理、方法及应用，其主要内容包括几何光学、物理光学及光学cad等几个部分。本书可作为测控技术与仪器、光机电一体化、光电工程等专业“工程光学”课程的教材，也可供相关专业技术人员参考。

工程光学内容简介

本书系统地介绍了工程光学的基本原理、方法及应用，其主要内容包括几何光学、物理光学及光学cad等几个部分。其中几何光学部分包括几何光学的基本定律与成像概念、理想光学系统、平面光学系统、实际光学系统中的光束限制、光线的光路计算与像差理论、典型光学系统等几个部分。物理光学部分包括光的电磁性质、光的干涉和衍射及光的偏振和晶体光学基础等几个部分。光学cad部分详细介绍了光学设计软件zemax的使用。
本书可作为测控技术与仪器、光机电一体化、光电工程等专业“工程光学”课程的教材，也可供相关专业技术人员参考。

工程光学目录

第1章几何光学基本定律与成像概念
1．1 光学的发展简史
1．2 几何光学的基本概念
1．3 几何光学的基本定律
1．4 成像的基本概念与成完善像条件
习题
第2章球面光路计算与近轴光学系统
2．1 基本概念与符号规则
2．2 实际光线的光路计算
2．3 近轴光线的光路计算
2．4 近轴区球面光学成像系统
习题
第3章理想光学系统
3．1 理想光学系统与共线成像理论
3．2 光学系统的基点与基面

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